์ต๊ด์
(Kwangsu Choi)
1
์ก์๋ฒ
(Youngbuem Song)
2
์ด์นํ
(Seonghoon Yi)
3*
๋ฐ์ค์
(Joon Sik Park)
1*
-
ํ๋ฐญ๋ํ๊ต ์ ์์ฌ๊ณตํ๊ณผ
(Department of Materials Science and Engineering, Hanbat National University, Daejeon
34158, Republic of Korea)
-
๊ตญ๋ฐฉ๊ณผํ์ฐ๊ตฌ์
(Agency for Defense Development, Daejeon 34186, Republic of Korea)
-
๊ฒฝ๋ถ๋ํ๊ต ์ ์์ฌ๊ณตํ๋ถ
(Department of Materials Science and Metallurgical Engineering, Kyungpook National
University, Daegu 41566, Republic of Korea)
Copyright ยฉ 2019 The Korean Institute of Metals and Materials
Key words
TiAl, oxidation, coatings
1. ์ ๋ก
ฮณ-TiAl ํฉ๊ธ์ ๋ฎ์ ๋ฐ๋์ 700~800 ยฐC์ ๊ณ ์จ ์์ญ์์ ์ฐ์ํ ๊ฐ๋๋ก ์ฐ์ฃผ ํญ๊ณต ๋ฐ ์๋์ฐจ ๋ถ์ผ์ ๊ณ ์จ์ฌ๋ฃ๋ก ๋ง์ ๊ด์ฌ์ ๋ฐ๊ณ ์๋ค [1-4]. TiAl ํฉ๊ธ์ ์ฃผ๋ก ฮณ์ (L10)๊ณผ ฮฑ2์ (D019)์ผ๋ก ์ด๋ฃจ์ด์ ธ ์์ผ๋ฉฐ ์ด์ฒ๋ฆฌ์จ๋์ ๋๊ฐ์๋์ ๋ฐ๋ผ near-gamma, duplex, nearly lamellar, fully lamellar๋ฑ์
๋ฏธ์ธ๊ตฌ์กฐ๋ฅผ ๋ํ๋ด๋ฉฐ, ๊ฐ ๋ฏธ์ธ๊ตฌ์กฐ ๋ง๋ค ์๋ก ๋ค๋ฅธ ํน์ฑ์ ๊ธฐ๊ณ์ ๋ฌผ์ฑ์ ๋ํ๋ธ๋ค [1,2]. ์ต๊ทผ ์ฐ๊ตฌ์์๋ TiAl ํฉ๊ธ์ ๊ณ ์จ ์ฐ์ฑ์ ํฅ์์ํค๊ธฐ ์ํ์ฌ BCC ๊ตฌ์กฐ์ ฮฒ/B2์ ์์ ํ ์์์ธ Mo ๋ฐ Nb์ ์ฒจ๊ฐํด ฮฑ2/ฮณ ๋ผ๋ฉ๋ผ ๊ตฌ์กฐ์ ฮฒ/B2์์ ํฌํจํ ํฉ๊ธ ์กฐ์ฑ์ด ๊ฐ๋ฐ๋์์ผ๋ฉฐ, ฮฒ/B2์ ์์ ํ ์์์ ์์ด ~5 at% ์ผ ๋์ TiAl ํฉ๊ธ์ ์ธ์ฑ์ด ์ฆ๊ฐํ๋
ํจ๊ณผ๊ฐ ๋ณด์ด๊ณ ์์์ ๋ณด๊ณ ํ๋ ๋ฑ ๋ค์ํ ์ฐ๊ตฌ๊ฐ ์งํ๋๊ณ ์๋ค [5-7].
๊ณ ์จ ํ๊ฒฝ์์ TiAl ํฉ๊ธ์ ์ฌ์ฉํ๊ธฐ ์ํด์๋ ํฉ๊ธ ์ค๊ณ์ ๋ฐ๋ฅธ ๊ธฐ๊ณ์ ๋ฌผ์ฑ๋ฟ๋ง ์๋๋ผ ๋ด์ฐํ์ฑ๊ณผ ์ฐํ๊ฑฐ๋์ ๋ถ์์ด ํ์์ ์ด๋ผ๊ณ ํ ์ ์๋ค. TiAl
ํฉ๊ธ์ ๊ณ ์จ์ ์ฐํ ๋ถ์๊ธฐ์์ TiO2 ๋ฐ Al2O3 ์ฐํ๋ฌผ์ ๋์์ ์์ฑํ๋ฉฐ ์ฐ์ ์นํ๋์ ์ฑ์ฅ์๋๊ฐ ๋น ๋ฅธ TiO2๊ฐ Al2O3 ๋ณด๋ค ๋น ๋ฅด๊ฒ ์ฑ์ฅํด ์ธ๊ฐ ์ธต์ ์์นํ๋ค. ์ด ๋์, ์ํธ ํ๋ฉด์ ๋จ์ผ TiO2 ์ฐํ์ธต์ ๋ชจ์ฌ์์ ์ดํฝ์ฐฝ๊ณ์ ์ฐจ์ด์ ์ํด ์ฝ๊ฒ ๋ฐ๋ฆฌ๋๊ณ ์ด๋ ๊ณ ์จ์ฌ๋ฃ์ ํฉ๊ธ ์ฉ๋์ ์
์ํฅ์ ๋ฏธ์น๋ค๊ณ ์๋ ค์ ธ ์๋ค [8,9]. ์ด๋ฌํ TiAl ํฉ๊ธ์ ๋ด์ฐํ์ฑ์ ๊ฐ์ ์ํค๊ธฐ ์ํ ํฉ๊ธ์ ์ค๊ณํ๊ธฐ ์ํ์ฌ Mo, Nb ๊ณผ ๊ฐ์ ฮฒ/B2์ ์์ ํ ์์๋ฅผ ํฉ๊ธ์ ํฌํจ์์ผ Al2O3์ ๊ฒฐํจ์ ๊ฐ์์ํค๊ฑฐ๋ TiO2์ ์์ฑ์ ์ค์ด๋ ์ฐํ๊ฑฐ๋์ด ๋ฐํ๋์๋ค [10-12]. ์ด์ ๊ฐ์ด, ํ์ฌ๊น์ง ๋ง์ TiAl ํฉ๊ธ์ ์ถ๊ฐ ์ฒจ๊ฐ๋ฌผ์ ๋ฐ๋ฅธ ๋ด์ฐํ์ฑ ํฅ์์ ๋ํ ์ฐ๊ตฌ๊ฐ ์งํ๋์์ง๋ง, ๋ฏธ์ธ์กฐ์ง๊ณผ ์ ๊ด์ ์์์ ์ด๊ธฐ ์ฐํ
๊ฑฐ๋ ๋ถ์์ ์์ง ๋ถ์กฑํ ์ค์ ์ด๋ค.
์๊ธฐ์ ํฉ๊ธ ์ค๊ณ๋ฅผ ํตํ ๋ด์ฐํ์ฑ์ ๊ฐ์ ์ ๋๋ชจํ๋ ์ฐ๊ตฌ ์ด์ธ์ ํ๋ฉด ์ฝํ
์ ํตํ์ฌ TiAl ํฉ๊ธ์ ์ฌ์ฉ ์จ๋๋ฅผ ํฅ์์ํค๊ณ ์ ํ๋ ๋ง์ ์ฐ๊ตฌ๊ฐ ๋ณด๊ณ ๋๊ณ
์๋ค [13]. ํนํ, ํฉ ์ธ๋ฉํ
์ด์
(pack cementation) ์ฝํ
์ Ni ๋ฐ Mo ๊ธฐ์ง ํฉ๊ธ๊ณผ ๊ฐ์ ๋ด์ด์ฌ๋ฃ์ ๋ด์ฐํ ์ฝํ
์ผ๋ก ๋ง์ ์ฐ๊ตฌ๊ฐ ์ด๋ค์ง๊ณ
์๋ ์ฝํ
๋ฒ์ผ๋ก์, ์ด๋ฌํ ์ฝํ
๋ฐฉ๋ฒ์ ํ์ฑํ ๊ฐ์ค๋ฅผ ํตํ ํํ ๊ธฐ์ ์ฆ์ฐฉ๋ฒ์ผ๋ก ๋ณต์กํ ํ์์ ๋ถํ์๋ ์ผ์ ํ ๋๊ป์ ์ฝํ
์ด ๊ฐ๋ฅํ๋ค๋ ํน์ง์ด ์๋ค
[13,14]. ๋ฐ๋ผ์, Si ํฉ ์ธ๋ฉํ
์ด์
(pack cementation) ์ฝํ
์ ํตํด ฮฒ/B2 ์์ ํฌํจํ TiAl ํฉ๊ธ์ ๋ด์ฐํ์ฑ์ ํฅ์์ํค๊ณ ์ ํ์๋ค.
Si, NaF, Al2O3 ํ์ฐ๋๋ฅผ ์ฌ์ฉํ Si ํฉ ์ธ๋ฉํ
์ด์
(pack cementation) ์ฝํ
๊ณต์ ์ ์ด์ฒ๋ฆฌ ๊ณผ์ ์์ Si + NaFโ SixFy (g) + NaF (s)์ ๋ฐ์์ ํตํด SixFy (g) ํ์ฑํ ๊ฐ์ค๋ฅผ ์์ฑํ๊ณ ํ์ฑํ ๊ฐ์ค๊ฐ ํฉ๊ธ ๋ด๋ก ๊ณ ์ฒด ํ์ฐ๋์ด silicide ์ฝํ
์ธต์ ํ์ฑํ๋ฉฐ, ๊ณ ์จ์ ํ๊ฒฝ์์ ์ํธ์ ์์ ์ ์ผ๋ก ๋ณดํธํ๋ค๊ณ
์๋ ค์ ธ ์๋ค [15-20].
๋ณธ ์ฐ๊ตฌ์์๋ ฮฒ/B2์์ ํฌํจํ๋ Ti-Al-(3, 5)Mo-(2Nb) ํฉ๊ธ ์์คํ
์ ์ธ ์ข
๋ฅ์ ํฉ๊ธ ์กฐ์ฑ์ ์ ์ํ๊ณ ์ฐํํ
์คํธ๋ฅผ ํตํ์ฌ ์ด๊ธฐ ์ฐํ
๊ฑฐ๋์ ๋น๊ต ๋ถ์ํ์๋ค. 1000 ยฐC ์ฐํ ํ
์คํธ ๊ณผ์ ์์ 1~10๋ถ ๊ฐ๊ฒฉ์ผ๋ก ์ธ ํฉ๊ธ ๋ด์ ฮฑ2, ฮฒ/B2, ฮณ ์์ ๋ถ์ํ์๋ค. ๋ํ, TiAl ํฉ๊ธ์ ์ฌ์ฉ ์จ๋ ํฅ์์ํค๊ธฐ ์ํ์ฌ Si ํฉ ์ธ๋ฉํ
์ด์
(pack cementation) ์ฝํ
์
์ํํ๊ณ ์ค๋ฆฌ์ฝ ํํฉ๋ฌผ ์ฝํ
์ธต์ด ์กด์ฌํ ์ํํธ ๋ด์ฐํ์ฑ์ 1000 ยฐC์์ ๋ถ์ํ์ฌ ๋ด์ฐํ์ฑ์ ๋์ผ ์ ์๋ ํฉ๊ธ์์์ ์ฝํ
์กฐ๊ฑด์ ์ ์ํ๊ณ ์ ํ์๋ค.
2. ์คํ ๋ฐฉ๋ฒ
Ti-Al-Mo(-Nb) ํฉ๊ธ ์์คํ
์ Ti (99.9%), Al (99.9%), Mo (99.9%), Nb (99,9%)์ ์์ฌ๋ฅผ ์ฌ์ฉํ์ฌ Ti-45Al-3Mo
(3Mo), Ti-45Al-3Mo-2Nb (3Mo2Nb) ๊ทธ๋ฆฌ๊ณ Ti-45Al-5Mo (5Mo), ์ธ ์ข
๋ฅ์ ํฉ๊ธ ์กฐ์ฑ์ ์ํฌ ๋ฉํ
๊ธฐ๋ฅผ ์ฌ์ฉํด ์ ์ํ์๋ค.
์ํฌ ๋ฉํ
์ Ar ๋ถ์๊ธฐ์์ ์งํํ์์ผ๋ฉฐ ๊ท ์งํ ์ฒ๋ฆฌ๋ฅผ ์ํ์ฌ 5๋ฒ ๋ฐ๋ณตํ์ฌ ์ฉ์ตํ์๋ค. ํฉ๊ธ์ ์ด์ฒ๋ฆฌ๋ ์ธ ์กฐ์ฑ ๋ชจ๋ Ar ๋ถ์๊ธฐ์ 1250 ยฐC
์จ๋์์ 12 h์ ์ ์งํ์๊ณ ๋๊ฐ์ ๋ก๋ (furnace cooling)์ผ๋ก ์งํํ์๋ค. ์ธ ํฉ๊ธ์ 900, 1000 ยฐC์ ์จ๋์์ ์ฐํ ํ
์คํธ๋ฅผ
ํตํ์ฌ ์ต๋ 48 h๊น์ง ์ฐํ ์ ํญ์ฑ์ ๋น๊ตํ์๋ค. ํนํ, 1000 ยฐC์ ์ฐํ์์๋ ์ด๊ธฐ ์ฐํ ๊ฑฐ๋์ ํ์ธํ๊ธฐ ์ํ์ฌ 1~10๋ถ ๊ฐ๊ฒฉ์ผ๋ก ์ํธ์
๊ฐ์ด๋ก์์ ๊บผ๋ด์ด SEM BSE, EDS ๋ถ์ํ๋ ์ฐํ ํ
์คํธ๋ฅผ ์งํํ์ฌ ฮฑ2, ฮฒ/B2, ฮณ์์ ์ฐํ๊ฑฐ๋์ ๋น๊ตํ์๋ค.
์ถ๊ฐ์ ์ผ๋ก ๋ด์ฐํ์ฑ์ ํฅ์์ํค๊ธฐ ์ํ ํ๋ฉด Si ํฉ ์ธ๋ฉํ
์ด์
(pack cementation) ์ฝํ
์ Ti-45Al-3Mo-2Nb ํฉ๊ธ ์กฐ์ฑ์ ์ ์ ํ์ฌ
์๋ฃจ๋ฏธ๋ ๋๊ฐ๋ ๋ด์ Si:NaF:Al2O3(25:5:70 wt%) ํผํฉ ํ์ฐ๋๋ฅผ ์ํธ๊ณผ ํจ๊ป ๋ฐ๋ดํ๊ณ 1000 ยฐC, 6 h ๋์ Ar ๋ถ์๊ธฐ์์ ์ด์ฒ๋ฆฌ๋ฅผ ์งํํ์๋ค. ์ฝํ
์ ์ํํ ๊ฒฐ๊ณผ,
ฯ2์๊ณผ Ti5Si4 silicide ์ฝํ
์ธต๊ณผ TiAl3, TiAl2 ์ ๊ฐ์ ๋ด๋ถ ํ์ฐ์ธต์ด ํ์ฑ๋์๊ณ , ๊ฐ ์ธต๋ค์ ๋ฏธ์ธ์กฐ์ง๊ณผ ์๋ถ์์ ์ํํ์๋ค. ์ค๋ฆฌ์ฝ ํํฉ๋ฌผ์ด ์ฝํ
๋ ์ํํธ์ ์ฐํ ์คํ์ 900~1000 ยฐC์
์จ๋์์ 12~48 h์ ์กฐ๊ฑด์์ ์ฝํ
ํ์ง ์์ 3Mo2Nb ํฉ๊ธ๊ณผ ๋ด์ฐํ์ฑ์ ๋น๊ต ๋ถ์ํ๋ค. ์ํธ์ ํ๋ฉด ๋ฐ ๋จ๋ฉด ๋ฏธ์ธ์กฐ์ง์ ์ฃผ์ฌ์ ์ํ๋ฏธ๊ฒฝ (scanning
electron microscope (SEM, JEOL 6100, Hitachi 5000))์ ํ๋ฐฉ์ฐ๋ ์์์ผ๋ก (back scattering image
(BSE)) ๊ด์ฐฐํ์๊ณ ์๋์ง ๋ถ๊ด๊ธฐ (energy dispersive spectrum (EDS)) ๋ถ์์ ํตํด ๊ฐ ์์ ์ฑ๋ถ์ ๋ถ์ํ์๋ค.
3. ์คํ ๊ฒฐ๊ณผ ๋ฐ ๊ณ ์ฐฐ
๊ทธ๋ฆผ 1 (a)-(c)๋ ์ํฌ ๋ฉํ
์ ํตํด์ ์ ์กฐ๋ (a) 3Mo, (b) 3Mo2Nb, (c) 5Mo ํฉ๊ธ์ ์ํํธ ํ๋ฉด SEM BSE ์ด๋ฏธ์ง์ด๋ค. ์ธ ์กฐ์ฑ ๋ชจ๋ ฮฒ/B2์
์์ ํ ์์๊ฐ ํฌํจ๋ ํฉ๊ธ์ ๋ฏธ์ธ๊ตฌ์กฐ์ธ ์ฝ๋ก๋ ๊ณ๋ฉด์ ฮฒ/B2์์ด ์์นํ๊ณ ์ฝ๋ก๋ ๋ด๋ถ์ ฮฑ2/ฮณ ๋ผ๋ฉ๋ผ ๊ตฌ์กฐ๋ฅผ ๋ํ๋ด์๋ค [5]. ๊ทธ๋ฆผ 1 (d)~(f)๋ Ar ๋ถ์๊ธฐ์์ 1250 ยฐC 12 h ์กฐ๊ฑด์ผ๋ก ์ด์ฒ๋ฆฌ๋ (d) 3Mo, (e) 3Mo2Nb, (f) 5Mo ํฉ๊ธ์ SEM BSE
์ด๋ฏธ์ง์ด๋ค. 1250 ยฐC ์ด์ฒ๋ฆฌ ์จ๋๋ ฮฒ/B2 ์์ ํ ์์ด ํฌํจ๋ ํฉ๊ธ์์ ์ํ๋ ์์์ ฮฑ+ฮณ+(ฮฒ/B2)์์ ์จ๋ ์์ญ์ผ๋ก ฮฑ2/ฮณ ๋ผ๋ฉ๋ผ ๊ตฌ์กฐ๋ฅผ ๋ถ๊ดดํ๊ณ ๊ณ ์จ์์ ๊ฐ๋๊ฐ ์ฝํ ฮฒ/B2์์ ๋ถ์จ์ ์ค์ฌ ๊ธฐ๊ณ์ ๋ฌผ์ฑ์ ํฅ์์ํค๋ ์ด์ฒ๋ฆฌ ์กฐ๊ฑด์ด๋ค [4]. ๊ทธ๋ฆผ 1 (d)๋ ์ฝ๋ก๋ ๋ด๋ถ๋ ฮฑ2/ฮณ ๋ผ๋ฉ๋ผ +ฮฒ/B2 ๊ตฌ์กฐ๋ฅผ ์ด๋ฃจ๊ณ ์์ผ๋ฉฐ, ์ฝ๋ก๋ ๊ณ๋ฉด์์๋ ฮฒ/B2 ์์ด ์ค์ด๋ค๊ณ ฮณ ์์ด ์์ฑ๋ ๊ฒ์ ํ์ธ ํ ์ ์๋ค. ์ด๋ 1250 ยฐC
์ด์ฒ๋ฆฌ๋ฅผ ํตํด์ ฮฒ/B2โฮณ ์์ผ๋ก ์๋ณํ๊ฐ ๋ํ๋ ๊ฒ์ผ๋ก ์ฌ๋ฃ๋๋ค. ๊ทธ๋ฆผ 1 (e)๋ ฮฒ/B2 ์์ด ํฌ๊ฒ ๊ฐ์ํ์์ผ๋ฉฐ ๋ผ๋ฉ๋ผ ๊ตฌ์กฐ๊ฐ ๋ถ๊ดด๋์๊ณ ๋จ์ผ ฮฑ2, ฮณ ์์ด ํ์ฅ๋์๋ค. ฮฒ/B2์์ ๊ตฌํ์ ๋ชจ์์ผ๋ก ์์นํด ์๋ค. ๊ทธ๋ฆผ 1 (f) ๋ํ ฮฒ/B2์์ ๊ฐ์ํ๊ณ ๋จ์ผ ฮฑ2, ฮณ ์์ด ํ์ฅํ์์ผ๋, ๊ทธ๋ฆผ 1 (e)์๋ ๋ค๋ฅด๊ฒ ๋ถ์ฐ์ ฮฒ/B2์์ด ๋ํ๋ฌ๋ค. Fig. l (e), (f)์ ์ ๋ณํ ๋ํ 1250 ยฐC ์ด์ฒ๋ฆฌ๋ฅผ ํตํด์ ฮฒ/B2์์ ๊ฐ์์ ๋จ์ผ ฮฑ2, ฮณ ์์ ์ฑ์ฅ์ ํตํ ์ ๋ณํ๊ฐ ์์ธ์ผ๋ก ์์ฉํ ๊ฒ์ผ๋ก ์ฌ๋ฃ๋๋ค.
๊ทธ๋ฆผ 2๋ ์ธ ํฉ๊ธ์ SEM BSE ์ด๋ฏธ์ง๋ก ๋น๊ตํ ์ฐํ ํ
์คํธ ๊ฒฐ๊ณผ์ด๋ค. ์ฌ๋ฌ ์๋ค์ ์ด๊ธฐ ์ฐํ์ ์ ๋๋ฅผ ๊ด์ธกํ๊ธฐ ์ํ์ฌ ๊ทธ๋ฆผ 1 (d)-(f)์ ๋งํฌ๋ ๊ฐ ์๋ค์ ์ฐํ ํ
์คํธ ๊ณผ์ ์์ ๋ฐ๋ณต์ ์ผ๋ก EDS ๋ถ์ํ์๋ค. ๊ทธ๋ฆผ 2 (a)-(d)๋ 3Mo ์ํธ์ 1000 ยฐC 9, 15, 27, 40 min ์ฐํ ํ
์คํธ ์กฐ๊ฑด์์ ๊ฐ์ ๋ฏธ์ธ์กฐ์ง์ ์์น๋ฅผ ์ดฌ์ํ SEM BSE ์ด๋ฏธ์ง์ด๋ค. ๊ทธ๋ฆผ 2 (a) ์ฐํ ์๊ฐ 9 min์์ ๋ค๋ชจ๋ก ๋งํฌ๋ ๋ถ๋ถ์์ ๋จ์ผ ฮณ ์์์ ์ฐํ๋ฌผ์ ์์ฑ์ด ์์๋์๋ค. ๊ทธ๋ฆผ 2 (b) ์ฐํ ์๊ฐ 15 min์์๋ ๋ชจ๋ ์์์ ์ฐํ๊ฐ ์์๋์์ง๋ง ์ผ์ฐ๋ถํฐ ์์ฑ๋ ๋จ์ผ ฮณ ์์ ์ฃผ๋ณ์ ์ฐํ๋ฌผ์ด ์ฑ์ฅํ ๊ฒ์ ํ์ธํ ์ ์๋ค. 3Mo์
ฮฒ/B2์์ ๊ทธ๋ฆผ 2 (c) ์ฐํ์๊ฐ 27 min์์๋ ์ผ๋ถ ๋ชจ์์ ์ ์งํ๋ ๊ฒ์ผ๋ก ๋ณด์ ฮณ ์๋ณด๋ค ์ฐํ๋ฌผ์ ํ์ฑํ๋ ์๋๊ฐ ๋๋ฆฐ ๊ฒ์ผ๋ก ์ฌ๋ฃ๋๋ค. ๊ทธ๋ฆผ 2 (d) ์ฐํ์๊ฐ 40 min ์ด์์์๋ ์ํธ์ ํ๋ฉด์ด ์์ ํ ์ฐํ๋์๋ค. ๊ทธ๋ฆผ 2 (e)-(h)๋ 3Mo2Nb ์ํธ์ 1000 ยฐC 9, 15, 27, 40 min ์ฐํ ํ
์คํธ ์กฐ๊ฑด์์์ ๋ฏธ์ธ์กฐ์ง SEM BSE ์ด๋ฏธ์ง์ด๋ค. ๊ทธ๋ฆผ 2 (e) ์ฐํ์๊ฐ 9 min์์ ์ผ๋ถ ฮณ ์์์๋ถํฐ ์ฐํ๋ฌผ์ ํ์ฑ์ด ๊ด์ฐฐ ๋์๋ค. ๊ทธ๋ฆผ 2 (f) ์ฐํ์๊ฐ 15 min์์๋ ๋ชจ๋ ์์ด ์ฐํ๊ฐ ๋๊ธฐ ์์ํ์์ผ๋ฉฐ, ๊ทธ๋ฆผ 2 (g), (h)์์ ๋จ์ผ ฮฑ2 ์์ด ์์ ํ ์ฐํ๋์ง ์๊ณ ๋จ์์๋ ๊ฒ์ ํ์ธํ ์ ์๋ค. ์ด๋ ฮณ ์๋ณด๋ค ฮฑ2 ์์ ์ฐํ๋ฌผ ํ์ฑ ์๋๊ฐ ๋ฆ๋๋ค๋ ๊ฒ์ ์๋ฏธํ๋ค. ๊ทธ๋ฆผ 2 (f)-(h)๋ 5Mo ์ํธ์ 1000 ยฐC 9, 15, 27, 40 min ์ฐํ ํ
์คํธ ์กฐ๊ฑด์์์ ๋ฏธ์ธ์กฐ์ง SEM BSE ์ด๋ฏธ์ง์ด๋ค. 3Mo, 3Mo2Nb ์ํธ๊ณผ
๋ง์ฐฌ๊ฐ์ง๋ก ๋จ์ผ ฮณ ์์ด ์ ์ฒด์ ์ผ๋ก ์ด๊ธฐ์ ์ฐํ๋๊ธฐ ์์ํ์๋ค (๊ทธ๋ฆผ 2 (i), (j)). ๊ทธ๋ฆผ 2 (k) ์ฐํ์๊ฐ์ด 27 min์์ ๋จ์ผ ฮฑ2, ฮฒ/B2 ์์ด ๋ฆ์ ์ฐํ๋ฌผ ์์ฑ ์๋๋ก ์ธํ์ฌ ์์ ํ์์ด ๋จ์์๋ค. ๊ทธ๋ฆผ 2 (l) ์ฐํ์๊ฐ 40 min ์ดํ์๋ ๋ชจ๋ ์์ด ์ฐํ๋ฌผ์ ํ์ฑํ์๋ค.
TiAl ํฉ๊ธ๋ด Mo+6์ด์จ๊ณผ Nb+5์ด์จ์ TiO2 ์ฐํ๋ฌผ์ Ti+4 ์ด์จ์๋ฆฌ์ ๊ณ ์ฉ๋์ด ์ ๊ธฐ์ ์ค์ฑ์ ์ ์งํ๊ธฐ ์ํด TiO2์ ์ฑ์ฅ์ ์ง์ฐ์ํค๋ ํจ๊ณผ๊ฐ ์์ผ๋ฉฐ, ์ฐํ ๊ฑฐ๋์ Mo, Nb์ ์ฒจ๊ฐ ์์ ๋ฐ๋ผ ๊ฑฐ๋์ ์ฐจ์ด๊ฐ ์๋ค๊ณ ์๋ ค์ ธ ์๋ค [9,10]. ๋ฐ๋ผ์, ํ๋์ ํฉ๊ธ ์กฐ์ฑ ์์์๋ Mo ๋ฐ Nb ํจ๋ ๋๋ Ti, Al์ ๋น์จ์ ๋ฐ๋ผ ์ฐํ ์๋๊ฐ ๋ค๋ฅด๋ค๊ณ ์ฌ๋ฃ๋๋ค. ๊ทธ๋ฆผ 2์ ์ฐํ ํ
์คํธ ๊ฒฐ๊ณผ๋ก๋ ์ด๊ธฐ์ ฮณ ์์ด ์ฐํ๋ฌผ ํ์ฑ๋๋ฉฐ ฮฑ2, ฮฒ/B2 ์์ ์ฐํ๋ฌผ์ ํ์ฑ์๋๊ฐ ๋๋ฆฐ ๊ฒ์ ํ์ธํ์๋ค.
๊ทธ๋ฆผ 3๋ ์ธ ํฉ๊ธ (a) 3Mo, (b) 3Mo2Nb, (c) 5Mo์ 1000 ยฐC 24 h ์ฐํ ํ
์คํธ๋ฅผ ํตํด ์ถฉ๋ถํ ์ฐํ๋ฌผ์ ์ฑ์ฅ์ด ์ผ์ด๋ ์ดํ์
SEM BSE ์ด๋ฏธ์ง์ EDS ๋ถ์๊ฒฐ๊ณผ๋ฅผ ๋ํ๋ธ ๊ฒ์ด๋ค. ๊ทธ๋ฆผ 3 (a), (c)์ ํ๋ฉด์ฐํ๋ฌผ์ ๋ ํฉ๊ธ ๊ฐ์ ํฐ ์ฐจ์ด ์์ด ์ฝ 10 ฮผm ํฌ๊ธฐ์ ๊ฒฐ์ ์ ์ด๋ค ํ๋ฉด์ ๋ฎ๊ณ ์์ผ๋, ๊ทธ๋ฆผ 3 (b) 3Mo2Nb์ ํ๋ฉด ์ฐํ๋ฌผ์ ์ฝ ~5 ฮผm ์ดํ์ ํฌ๊ธฐ๋ก ๊ทธ๋ฆผ 3 (a), (c)๋ณด๋ค ์์ ํฌ๊ธฐ์ ๊ฒฐ์ ์ด ํ๋ฉด์ ์์ฑ๋์๋ค. ๋ํ, ํ๋ฉด ์ฐํ๋ฌผ์ EDS ๋ถ์๊ฒฐ๊ณผ, ๊ทธ๋ฆผ 3 (a), (c)๋ TiO2 ์ฐํ๋ฌผ์ด ํ๋ฉด์ ๋ฎ๊ณ ์๋ ๊ฒ๊ณผ ๋ค๋ฅด๊ฒ, ๊ทธ๋ฆผ 3 (b)๋ Al์ด 4.8 at% ๊ฒ์ถ๋์ด TiO2+Al2O3 ๋ณดํธ์ธต์ด ํ๋ฉด์ ์ด๋ฃจ์๋ค.
๊ทธ๋ฆผ 4๋ ์ธ ํฉ๊ธ์ 900~1000 ยฐC 12~48 h ์ฐํํ
์คํธ ๊ฒฐ๊ณผ๋ฅผ ๊ทธ๋ํ๋ก ๋ํ๋ธ ๊ฒ์ด๋ค. 900 ยฐC 48 h, 1000 ยฐC 12, 24, 48
h์ ๋ชจ๋ ์ฐํํ
์คํธ ์กฐ๊ฑด์์ 3Mo2Nb ํฉ๊ธ์ด 3Mo, 5Mo ๋ณด๋ค ์ฐ์ํ ๋ด์ฐํ์ฑ์ ๋ํ๋๋ค. ์ด๋ฌํ ๋ด์ฐํ์ฑ์ ์ฐจ์ด๋ ๊ทธ๋ฆผ 3 (b)์ ~5 ฮผm ์ดํ์ ๊ฒฐ์ ํฌ๊ธฐ์ธ TiO2+Al2O3 ๋ณตํฉ ์ฐํ์ธต์ด ์ํธ์ ๋ณดํธํ๊ธฐ ๋๋ฌธ์ผ๋ก ์ฌ๋ฃ๋๋ค. ๊ทธ๋ฌ๋, ์ธ ํฉ๊ธ ๋ชจ๋ 1000 ยฐC์ ์จ๋์์ ์ฅ์๊ฐ ์์ ์ ์ผ๋ก ์ํธ์ ๋ณดํธํ ์ ์์ผ๋ฉฐ, ์ด๋
ํฉ๊ธ์ ์ฌ์ฉ์จ๋์ ์ ํ์ด ์๋ค. ๋ฐ๋ผ์, ์ธ ์ข
๋ฅ์ ํฉ๊ธ ์ค ๊ฐ์ฅ ์ฐ์ํ ๋ด์ฐํ์ฑ์ ๊ฐ์ง 3Mo2Nb ํฉ๊ธ์ ์ ์ ํ์ฌ Si pack cementation
ํ๋ฉด ์ฝํ
์ ํตํด 1000 ยฐC์ ๋ด์ฐํ์ฑ์ ์ถ๊ฐ์ ์ผ๋ก ๊ฐ์ ํ๊ณ ์ ํ์๋ค.
๊ทธ๋ฆผ 5์ (a) 1000 ยฐC 6 h ์กฐ๊ฑด์์ Si pack cementation ์ฝํ
ํ ์ํธ ๋จ๋ฉด SEM BSE ์ด๋ฏธ์ง์ (b) 700 ยฐC์์์ Ti-Al-Si
3์๊ณ ์ํ๋์ด๋ค [19]. ๊ทธ๋ฆผ 5 (a)์ ๊ฐ ์ฝํ
์ธต ๋ฐ ํ์ฐ์ธต์ EDS ๋ถ์ํ ๊ฒฐ๊ณผ๋ ํ 1์ ์ ๋ฆฌํ์๋ค. ๊ทธ๋ฆผ 5 (a)๋ ํ๋ฉด์์๋ถํฐ 4๊ฐ์ ์ธต์ผ๋ก ์ด๋ฃจ์ด์ ธ ์์ผ๋ฉฐ, ๊ฐ ์ธต์ EDS ๋ถ์์ ํตํด ์ ์ํ์๋ค. EDS ๋ถ์๊ฒฐ๊ณผ ์ธ๊ฐ์ ์ฝํ
์ธต ๋ถํฐ โ ฯ2์ธต / โกTi5Si4์ธต / โขTi3Al์ธต / โฃTi2Al์ธต์ ํ์ฑํ ๊ฒ์ผ๋ก ํ์ธ๋์๋ค. โ ฯ2์ธต์ ๊ฐ์ฅ ํ๋ฉด์ ํ์ฑ๋ ์ธต์ผ๋ก ์ฝ 8.2 ฮผm์ธต์ ๋๊ป๋ก ํ์ฑ๋์๋ค. โก Ti5Si4์ธต์ ์ฝํ
์ธต์ ์ค์์ ๊ฐ์ฅ ๋๊บผ์ด ๋๊ป๋ฅผ ๊ฐ์ง๋ silicide ์ฝํ
์ธต์ผ๋ก ๋๊ป๋ ์ฝ 59.5 ฮผm์ด๋ค. โข, โฃ์ Si์ ํฌํจํ์ง ์์ Al rich
ํ์ฐ์ธต์ผ๋ก โ , โก์์ silicide ์ฝํ
์ธต์ ํ์ฑํ๋ฉด์ ์ํธ์ ๋ด๋ถ๋ก ํ์ฐ๋ Al์ ์ํฅ์ ๋ฐ์ ์ธต์ผ๋ก ๋๊ป๋ ์ฝ 16.4 ฮผm์ด๋ค. ์ด๋ฌํ ฮฒ/B2์์
ํฌํจํ TiAl ํฉ๊ธ์ Si pack cementation ์ฝํ
์ ํ์ฐ ๊ฒฝ๋ก๋ก๋ ๊ทธ๋ฆผ 5 (b)์ Ti-Al-Si 3์๊ณ ์ํ๋์ ํ์ ํ ๋ฐ์ ๊ฐ์ด ฯ2 / Ti5Si4 / Ti3Al / Ti2Al / TiAl์ด๋ค.
๊ทธ๋ฆผ 6์ ํ๋ฉด ์ฝํ
๋์ง ์์ 3Mo2Nb ํฉ๊ธ๊ณผ Si pack cementation ์ฝํ
์ ์งํํ 3Mo2Nb ์ํธ์ 1000 ยฐC 48 h ์ฐํ ํ
์คํธ
๊ฒฐ๊ณผ์ด๋ฉฐ, ํ 2๋ ๊ทธ๋ฆผ 6 (b)์ ์ฐํ ํ
์คํธํ ์ฝํ
์ธต์ EDS ๋ถ์ํ ๊ฒ์ด๋ค. ๊ทธ๋ฆผ 6 (a)๋ ์ฝํ
ํ์ง ์์ 3Mo2Nb ํฉ๊ธ์ 1000 ยฐC 48 h ์ฐํ ํ
์คํธ ํ SEM BSE ์ด๋ฏธ์ง๋ก ์ฐํ์ธต์ด ๊ณ๋จ ๋ชจ์์ผ๋ก ๋ฐ๋ฆฌ ๋๋ฉด์ ์ํธ์ ์์ ์ ์ผ๋ก
๋ณดํธํ์ง ๋ชปํ๋ ์ฐํ๋ฌผ ๊ตฌ์กฐ๋ฅผ ํ์ฑํ์๋ค. ์ด๋ฌํ ์ฐํ ๊ฑฐ๋์ ์ฐํํ
์คํธ์ ์๊ฐ์ ๋ฐ๋ผ ๋ฐ๋ณต์ ์ผ๋ก ์ฐํ๋ฌผ์ ์์ฑ๊ณผ ๋ฐ๋ฆฌ๊ฐ ๋ฐ๋ณต์ ์ผ๋ก ๋ฐ์ํ์ฌ ์ํธ์
๋ณดํธํ๊ธฐ ์ด๋ ค์ธ ๊ฒ์ผ๋ก ์ฌ๋ฃ๋๋ค. ๊ทธ๋ฆผ 6 (b)๋ 3Mo2Nb ํฉ๊ธ์ Si pack cementation ์ฝํ
์ ์งํํ ๊ทธ๋ฆผ 6 (a) ์ํธ์ 1000 ยฐC 48 h ์ฐํ ํ
์คํธ ๊ฒฐ๊ณผ์ด๋ค. ์ฐํ ํ
์คํธ ์ดํ์ silicide ์ฝํ
์ธต์ ์ฝํ
ํ์ง ์์ ์ํธ์ ์ฐํ์ธต๊ณผ ๋ค๋ฅด๊ฒ ์ฌ๋ฌ ์ธ๋ผ๋ฏน
๋ณดํธ์ธต ๋ฐ ์ฝํ
์ธต์ด ๋ฐ๋ฆฌ์์ด ์ํธ์ ๋ณดํธํ์๋ค. ๊ฐ ์ธต์ ํ๋ฉด๋ถํฐ โ TiO2 ๋ณดํธ์ธต / โก TiO2+SiO2 ๋ณดํธ์ธต / โข Ti5(Si, Al)3 ์ธต+โฃ Ti3Al ์ / โค Ti2Al ์ธต / โฅ 3Mo2Nb ํฉ๊ธ ๋ชจ์ฌ๋ก ์ด๋ฃจ์ด์ ธ ์๋ค. ์ด๋ฌํ ์์ฑ์๊ณผ ์ฐํํน์ฑ์ ์์ธํ ์ดํด๋ณด๋ฉด, โ TiO2 ๋ณดํธ์ธต์ 4~6 ฮผm์ ๋๊ป๋ก ํ๋ฉด์ ๋ฎ๊ณ ์์ผ๋ฉฐ, ๊ทธ๋ฆผ 6 (a)์ ์ฐํ ์ธต๊ณผ ๋ค๋ฅด๊ฒ ์ํธ์ผ๋ก๋ถํฐ ๋ฐ๋ฆฌ๊ฐ ๊ด์ฐฐ๋์ง ์์๋ค. โก TiO2+SiO2 ๋ณดํธ์ธต์ 2~3 ฮผm์ ๋๊ป๋ก โ TiO2์ธต์ ์๋์ ์์นํ๋ฉฐ TiO2์ ์์ฌ ๋ฐ๋ฆฌ๋ฅผ ๋ฐฉ์งํ๊ณ ๋ณดํธ์ฑ์ด ๋์ SiO2๋ฅผ ํตํ์ฌ ์ถ๊ฐ์ ์ธ ์ฐํ๋ฅผ ๋ฐฉ์งํ๋ค. โข Ti5(Si, Al)3 + โฃ Ti3Al ์์ญ์์ โข Ti5(Si, Al)3๋ โก SiO2๋ฅผ ํ์ฑํ์ฌ Si์ ์๋นํ ฯ2 ๋ฐ Ti5Si4 (Fig 5 (a))์ธต์ด๋ค. โฃ Ti3Al ์๊ณผ โค Ti2Al ์ธต์ Si ์ฝํ
์ ์ํฅ์ด ์๋ ํ์ฐ์ธต์ด๊ณ โฅ์ 3Mo2Nb ๋ชจ์ฌ์ด๋ค.
๊ทธ๋ฆผ 7์ ๊ทธ๋ฆผ 6 (b) SEM BSE ์ด๋ฏธ์ง๋ฅผ ๋ชจ์ํํ ๊ฒ์ด๋ค. Si ํฉ ์ธ๋ฉํ
์ด์
(pack cementation) ์ฝํ
ํ 3Mo2Nb ํฉ๊ธ (๊ทธ๋ฆผ 7 (b))์ 1000 ยฐC 48 h ์กฐ๊ฑด์ ์ฐํํ
์คํธ์์ ์ธ๋ผ๋ฏน โ TiO2 ๋ณดํธ์ธต / โก TiO2+SiO2 ๋ณดํธ์ธต / โข Ti5(Si, Al)3 ์ธต+โฃ Ti3Al ์ / โค Ti2Al ์ธต / โฅ 3Mo2Nb์ผ๋ก ์ฐํ ๊ฑฐ๋์ด ๋ํ๋ฌ๋ค. ์ด๋ฌํ ์ฐํ ๊ฑฐ๋์ ์ํด์ ์์ฑ๋ ์ธ๋ผ๋ฏน ๋ณดํธ์ธต์ผ๋ก ์ฐ์์ ์ถ๊ฐ์ ์ธ ์นจ์
์ ๋ฐฉ์งํ์๋ค. ์ฝํ
ํ์ง
์์ 3Mo2Nb ํฉ๊ธ๊ณผ Si ํฉ์ธ๋ฉํ
์ด์
(pack cementation) ์ฝํ
ํ ํฉ๊ธ์ ์ฐํ์คํ์ ์ํ ๋ํ๋ ๋ฌด๊ฒ ๋ณํ๋ ๊ทธ๋ฆผ 8์ ๊ทธ๋ํ๋ก ๋น๊ตํ์๋ค. ์ค๋ฆฌ์ฝ ํํฉ๋ฌผ ์ฝํ
์ธต์ ํ์ฑํ ์ํธ์ด 900~1000 ยฐC์ ์จ๋์์ 12~48 h์ ๋ชจ๋ ์ฐํ ํ
์คํธ ์กฐ๊ฑด์์ ์ฝํ
ํ์ง
์์ 3Mo2Nb ์ํธ๋ณด๋ค ์ฐ์ํ๊ฒ ๋ํ๋ฌ์ผ๋ฉฐ, ํนํ 1000 ยฐC 12, 24, 48 h ์ฐํ ์กฐ๊ฑด์์ ~0.36%, ~0.47%, ~0.82%์ผ๋ก
1% ๋ฏธ๋ง์ ์ ์ ๋ฌด๊ฒ ๋ณํ๋ฅผ ๋ํ๋ด์ด 1000 ยฐC์ ๊ณ ์จ ํ๊ฒฝ์์ ์ฐ์ํ ๋ด์ฐํ์ฑ์ ์ฆ๋ช
ํ์๋ค.
4. ๊ฒฐ ๋ก
ฮฒ/B2์ ์์ ํ ์์๊ฐ ํฌํจ๋ ฮณ-TiAl ํฉ๊ธ ์กฐ์ฑ์ ์์จ ์ธ์ฑ๊ณผ ๊ณ ์จ ์ฐ์ฑ์ ์ฆ๊ฐ์ํค๋ ํจ๊ณผ๋ก ์ธํ์ฌ ํฉ๊ธ ์ค๊ณ๋ก ๋ง์ ์ฐ๊ตฌ๊ฐ ์ด๋ค์ง๊ณ ์๋ค.
๋ํ, ๊ณ ์จ ํ๊ฒฝ์์ TiAl ํฉ๊ธ์ ์ฌ์ฉํ๊ธฐ ์ํด์๋ ๊ธฐ๊ณ์ ๋ฌผ์ฑ ํ๊ฐ ๋ฟ ์๋๋ผ ๋ด์ฐํํ๊ฐ์ ์ฐํ๊ฑฐ๋์ ๋ถ์์ด ๋ฐ๋์ ํ์ํ๋ค. ๋ณธ ์ฐ๊ตฌ์์๋
Ti-45Al-3Mo, Ti-45Al-3Mo-2Nb, Ti-45Al-5Mo ์ธ ํฉ๊ธ ์กฐ์ฑ์ ์ ์กฐํ๊ณ 900, 1000 ยฐC์ ์จ๋์์ ์ฐํ๊ฑฐ๋๊ณผ ๋ด์ฐํ์ฑ์
๋น๊ต ๋ถ์ํ๊ณ ์ฝํ
ํ ์ํํธ์ ๋น๊ต๋ถ์ํ ๊ฒฐ๊ณผ, ๋ค์๊ณผ ๊ฐ์ ๊ฒฐ๋ก ์ ์ป์ ์ ์์๋ค.
1. ์ ์กฐ๋ ํฉ๊ธ์ ๋ชจ๋ ฮฒ/B2 ์์ด ์ฝ๋ก๋ ๊ณ๋ฉด์ ์กด์ฌํ๊ณ ์์๊ณ , ๋ด๋ถ์์๋ ฮฑ2/ฮณ ๋ผ๋ฉ๋ผ ๊ตฌ์กฐ๋ฅผ ๋ํ๋ด์๋ค. ๋ํ, ์ธ ์ข
๋ฅ์ ํฉ๊ธ์ 1250 ยฐC์์ ์ด์ฒ๋ฆฌํ ๊ฒฐ๊ณผ, ์ฝ๋ก๋ ๋ด๋ถ์ ๋ผ๋ฉ๋ผ๊ตฌ์กฐ๋ ฮฑ2/ฮณ ๋ผ๋ฉ๋ผ ๋ฐ ฮฒ/B2 ์์ด ํผ์ฌํ๊ณ ์์์ ์ ์ ์์๋ค. ๋ํ, ์ฝ๋ก๋ ๊ณ๋ฉด์ ์กด์ฌํ๋ ฮฒ/B2์์ ์ค์ด๋ค๊ณ ฮณ์์ด ์์ฑ๋จ์ ์ ์ ์์๋ค.
2. ์๊ธฐ์ ์ธ ์ข
๋ฅ์ ํฉ๊ธ์ ์ฐํํ ๊ฒฐ๊ณผ, ์ด๊ธฐ์ ๋จ์ผ ฮณ์ ์ฃผ๋ณ์ ์ฐํ๋ฌผ์ด ์ฑ์ฅํ ๊ฒ์ ์ ์ ์์์ผ๋ฉฐ, ฮฒ/B2์์ ฮณ์๋ณด๋ค ์ฐํ๋ฌผ์ ํ์ฑํ๋
์๋๊ฐ ๋๋ฆฐ ๊ฒ์ผ๋ก ๋ํ๋ฌ๋ค. ๋ํ, ฮฑ2์์ ๊ฐ์ฅ ์ฐํ๋ฌผ์ ํ์ฑ์๋๊ฐ ๋๋ฆฐ ๊ฒ์ผ๋ก ๋ํ๋ฌ๋ค. ์์ธ๋ฌ, Ti-45Al-3Mo-2Nb ํฉ๊ธ์ 1000 ยฐC์์ 40๋ถ์ ์ฐํํ์์์๋ ๋จ์ผ์์ด
๋จ์์์์ผ๋ก ๋ณด์ ๊ฐ์ฅ ๋ด์ฐํ์ฑ์ด ๋์ ๊ฒ์ผ๋ก ๋ํ๋ฌ๋ค. Ti-45Al-3Mo-2Nb ํฉ๊ธ์ ์ฝ 5 ฮผm ํฌ๊ธฐ์ TIO2+Al2O3 ๋ณตํฉ์ฐํ๋ฌผ์ด ์กด์ฌํ์ฌ ๋ด์ฐํ์ฑ์ ๋์์ง ๊ฒ์ผ๋ก ์ฌ๋ฃ๋๋ค.
3. ๊ฐ์ฅ ๋ด์ฐํ์ฑ์ด ์ฐ์ํ Ti-45Al-3Mo-2Nb ํฉ๊ธ์ ๋ด์ฐํ์ฑ์ ๊ฐ์ฐํ๊ณ ์, Si ํฉ ์ธ๋ฉํ
์ด์
(pack cementation) ํ๋ฉด
์ฝํ
์ ์ํํ ๊ฒฐ๊ณผ, ์ฝํ
์ธต์ ์์ฑ์ ๊ฒฝ๋ก๋ ฯ2/Ti5Si4/TiAl3/TiAl2/TiAl๋ก ๋ํ๋ฌ๋ค. ์์ฑ๋ ์ค๋ฆฌ์ฝํํฉ๋ฌผ์ด ํ๋ฉด์ ์กด์ฌํ๊ณ ์๋ ์ฝํ
๋ ์ํํธ๊ณผ ์ฝํ
๋์ง ์์ ์ํํธ์ ์ฐํ ํ ๋น๊ต๋ถ์ํ ๊ฒฐ๊ณผ, 1000 ยฐC
48 h์ ์ฐํ๋
ธ์ถ์คํ์์ ์ฝํ
๋ ์ํํธ์ 1 wt% ๋ฏธ๋ง์ ๋ฌด๊ฒ์ฆ๊ฐ์จ์ ๋ํ๋ด์์ง๋ง, ์ฝํ
๋์ง ์์ ์ํํธ์ ์ฝ 4.5 wt%์ ๋ฌด๊ฒ์ฆ๊ฐ๋ฅผ ๋ํ๋ด์ด
์ฝํ
์ธต์ด ๋ด์ฐํ์ฑ์ ๊ธฐ์ฌํจ์ ์ ์ ์์๋ค.
Acknowledgements
Financial support from DAPA (Defense Acquisition
Program Administration) through ADD (Agency for Defense Development) in the Republic
of Korea is gratefully acknowledged (contract No. UD140063GD). Additionally, JSP appreciates
partial financial support from the Basic Science Research Program through the National
Research Foundation of Republic of Korea (NRF) funded by the Ministry of Education,
Science and Technology (contract No. 2016R1D1A1A0991905).
REFERENCES
Kim Y.-W., JOM,41, 24 (1989)

Kim Y.-W., Acta Metal. Mater,40, 1121 (1992)

Choi K., Kim J. M., Park J. S., Kim Y.-W., Korean J. Met. Mater,56, 335 (2018)

Choi K., Kim M., Zhu J., Zhang F., Song Y., Yi S., Park J. S., J. Mater. Sci,53, 12504
(2018)

Brotzu A., Felli F., Pilone D., Intermetallics,54, 176 (2014)

Clemens H., Wallgram W., Kremmer S., Gรผther V., Otto A., Bartels A., Adv. Eng. Mater,10,
707 (2008)

Kim Y.-W., Kim S.-L., JOM,70, 553 (2018)

Shibata S. Taniguchi T., S85, Intermetallics 4, (1996)

Dai J., Zhu J., Chen C., Weng F., J. Alloy. Compd,685, 784 (2016)

Kim J.-W., Lee D.-B., Korean J. Mater. Res,14, 614 (2004)

Pflumm R., Donchev A., Mayer S., Clements H., Schรผtze M., Intermetallics,53, 45 (2014)

Naveed M., Renteria A. F., Weiร S., J. Alloy. Compd,691, 489 (2017)

Pflumm R., Friedle S., Schรผtze M., Intermetallics,56, 1 (2015)

Nishimoto T., Izumi T., Hayashi S., Narita T., Intermetallics,11, 225 (2003)

Park J. S., Sakidja R., Perepezko J. H., Scr. Mater,46, 765 (2002)

Sakidja R., Park J. S., Hamann J., Perepezko J. H., Scr. Mater,53, 723 (2005)

Perepezko J. H., Sakidja R., JOM,62, 13 (2010)

Majumdar S., Sharma I., Samajdar I., Bhargava P., J. Electron. Soc,155, D734 (2008)

Munro T. C., Gleeson B., Metall. Mater. Trans. A,27A, 3761 (1996)

Kim M., Choi K., Zhu J., Zhang F., Song Y., Kim Y., Yi S., Park J. S., Met. Mater.
Int,23, 625 (2017)

Figures and Tables
Fig. 1.
SEM BSE image of as-cast specimen with compositions of (a) Ti-45Al-3Mo, (b) Ti-45Al-3Mo-2Nb,
(c)Ti-45Al-5Mo alloys.
Fig. 2.
Surface morphology of (a)-(d) 3Mo, (e)-(h) 3Mo2Nb and (i)-(l) 5Mo after oxidation
tests at 1000 ยฐC for 9, 15, 27 and 40 min.
Fig. 3.
Surface morphology and EDS results of (a) 3Mo, (b)3Mo2Nb, (c) 5Mo after oxidation
tests at 1000 ยฐC for 24 h.
Fig. 4.
Oxidation tests results of Ti-45Al-3Mo, Ti-45Al-3Mo2Nb, Ti-45Al-5Mo at 900, 1000 ยฐC.
Fig. 5.
(a) SEM BSE images of Ti-45Al-3Mo-2Nb after Si pack cementation coatings, (b) ternary
phase diagram of Ti-Al-Si at 700 ยฐC.
Fig. 6.
SEM BSE images of (a) uncoated Ti-45Al-3Mo-2Nb and (b) silicide coated Ti-45Al-3Mo-2Nb
after oxidation tests at 1000 oC for 48 h.
Fig. 7.
Schematic microstructures of silicide coated Ti-45Al-3Mo2Nb after oxidation tests.
Fig. 8.
Comparison of oxidation resistance between uncoated Ti45Al-3Mo-2Nb alloy and silicide
coated Ti-45Al-3Mo-2Nb alloy.
Table 1.
EDS analysis of the silicide coating layer.
|
EDS Point
|
Ti
|
Al
|
Si
|
Stoichiometry
|
|
โ
|
51.5
|
7.4
|
41.1
|
ฯ2 |
|
โก
|
51.1
|
-
|
48.9
|
Ti5Si4 |
|
โข
|
26.0
|
74.0
|
-
|
TiAl3 |
|
โฃ
|
31.9
|
68.1
|
-
|
TiAl2 |
Table 2.
EDS analysis of the silicide coating layer after oxidation tests.
|
EDS Point
|
Ti
|
Al
|
Si
|
Mo
|
Nb
|
O
|
Stoichiometry
|
|
|
41.3
|
0.8
|
0.8
|
-
|
-
|
56.5
|
TiO2 |
|
|
19.9
|
0.6
|
20.3
|
-
|
-
|
59.2
|
TiO2+SiO2 |
|
|
67.9
|
1.1
|
26.6
|
4.4
|
-
|
-
|
Ti5(Si, Al)3 |
|
|
79.7
|
20.3
|
-
|
-
|
-
|
-
|
Ti3Al
|
|
|
59.7
|
36.8
|
-
|
3.5
|
-
|
-
|
Ti2Al
|
|
|
49.1
|
45.2
|
-
|
3.6
|
2.2
|
-
|
Substrate
|